María G. Capeluto

Profesor/a Adjunto/a Investigadora Adjunta de CONICET Esta dirección de correo electrónico está siendo protegida contra los robots de spam. Necesita tener JavaScript habilitado para poder verlo. Página web personal Laboratorio De Óptica Y Fotónica

Área de investigación: Óptica y fotónica

• materiales fotonicos
• materia con ulltra alta densidad de energia con aplicaciones en fuentes de rayos x y particulas

Intereses

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Publicaciones seleccionadas

[1] “Efficient picosecond X-ray pulse generation from plasmas in the radiation dominated regime” R. Hollinger, C. Bargsten, V. N. Shlyaptsev, V. Kaymak, A. Pukhov, M. G. Capeluto, S. Wang, A. Rockwood, Y. Wang, A. Townsend, A. Prieto, P. Stockton, A. Curtis, J. J. Rocca. Optica 4 (11), 1344-1349 (2017)

[2] “Energy Penetration into Arrays of Aligned Nanowires Irradiated with Relativistic Intensities: Scaling to Terabar Pressures" C. Bargsten, R. Hollinger, M. G. Capeluto, V. Kaymak, A. Pukhov, S. Wang, A. Rockwood, Y. Wang, D. Keiss, R. Tommasini, R. London, J. Park, M. Busquet, M. Klapisch, V. N. Shlyaptsev, and J. J. Rocca. Science Advances 3 (1) (2017): E1601558

[3] “Design of a compact device to generate and test beams with orbital angular momentum in the EUV” D. O. Pabon, S. A. Ledesma, G. F. Quinteiro, M. G. Capeluto. Applied Optics 56 (29), 8048-8054 (2017)

[5] “Azopolymer film as an actuator for organizing multiwall carbon nanotubes” M. G. Capeluto, R. Fernández Salvador, A. Eceiza, S. Goyanes, S. A. Ledesma, Optical Materials 66, 247-252 (2017)

[6] “Hierarchical ZnO nanostructures: Growth mechanisms and surface correlated photoluminescence” G. Grinblat, M. G. Capeluto, M. Tirado, A. V. Bragas, and D. Comedi. Appl. Phys. Lett. 100, 233116 (2012); doi: 10.1063/1.4724195

[6] “Patterning of nano-scale arrays by table-top extreme ultraviolet laser interferometric lithography” P.W. Wachulak, M.G. Capeluto, M.C. Marconi, C.S. Menoni, J.J. Rocca. Optics Express 15 (6), 3465-3469 (2007). ISSN: 1094-4087. Published by OSA (USA)

[7] “Nanopaterning with interferometric lithography using a compact ?= 46.9 nm laser”. M.G Capeluto, G. Vaschenko, M. Grisham, M.C. Marconi, S. Ludueña, L. Pietrasanta, C.S. Menoni, J.J. Rocca, Y. Lu y B. Parkinson. IEEE Transactions on Nanotechnology 1 (5), 3-7. (2006). Online ISSN: 1536-125X